Pat

J-GLOBAL ID：200903013258014332

光増幅ガラス薄膜の製造方法

Inventor： 吉本 護 ,  田部 勢津久 ,  近藤 裕己 ,  伊藤 節郎
Applicant, Patent owner： 旭硝子株式会社
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2000263727
Publication number (International publication number)：2002068779
Application date： Aug. 31, 2000
Publication date： Mar. 08, 2002
Summary：

【要約】【課題】透明性の高いエルビウムとビスマスを含む光増幅ガラス薄膜を提供する。【解決手段】レーザーアブレーション法により、基板上にエルビウムとビスマスを含む酸化物ガラス薄膜を形成するに当たり、真空チャンバ中の酸素分圧を0.1〜40Pa、基板温度を室温から400°Cまで、ターゲットへ照射するレーザーのエネルギ密度を0.5〜5J/cm2に制御する。

Claim (excerpt)：

真空チャンバ中においてターゲットにレーザー光を照射し、基板上に薄膜を形成するレーザーアブレーション法により基板上にエルビウムとビスマスを含む酸化物ガラス薄膜を形成するに当たり、真空チャンバ中の酸素分圧を0.1〜40Pa、基板温度を室温から400°Cまで、ターゲットへ照射するレーザー光のエネルギ密度を0.5〜5J/cm2に制御することを特徴とする光増幅ガラス薄膜の製造方法。

IPC (5)：

C03C 17/02 ,  C03B 19/14 ,  C23C 14/10 ,  C23C 14/28 ,  H01S 3/06

FI (5)：

C03C 17/02 A ,  C03B 19/14 A ,  C23C 14/10 ,  C23C 14/28 ,  H01S 3/06 B

F-Term (13)：

4G014AH11 ,  4G059AA08 ,  4G059AB05 ,  4G059AC30 ,  4G059CA01 ,  4G059CB02 ,  4K029BA02 ,  4K029BA43 ,  4K029CA01 ,  4K029DB20 ,  4K029EA03 ,  5F072AB09 ,  5F072YY17