Pat
J-GLOBAL ID:200903013279111400
ディスク基板及びその製造方法並びにその製造装置
Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1):
小池 晃 (外2名)
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1998182979
Publication number (International publication number):2000011375
Application date: Jun. 29, 1998
Publication date: Jan. 14, 2000
Summary:
【要約】【課題】 樹脂製ディスク基板に生じるスキージャンプやバリを除去されたディスク基板及びその製造方法並びにその製造装置を提供する。【解決手段】ディスク基板の製造装置は、樹脂製のディスク基板20を両主面側から挟み込んでディスク基板20の少なくとも外周端部にプレス処理を施す一対のプレス用金型2,3と、プレス処理時にプレス用金型3を駆動させてプレス用金型2に押しつけることにより一対のプレス用金型2,3を型締め状態にするシリンダ7とを備える。そして、一対のプレス用金型2,3は、ディスク基板20の外周端部に対応する部分が切り欠き形状となされている。このような構成のディスク基板の製造装置によれば、外周端部がプレス成形されてバリやスキージャンプが除去されたディスク基板が得られる。
Claim (excerpt):
樹脂材料からなり、少なくとも外周端部にプレス処理が施されることを特徴とするディスク基板。
IPC (2):
FI (2):
F-Term (9):
5D006CB01
, 5D006CB07
, 5D006EA00
, 5D006FA00
, 5D112AA02
, 5D112AA24
, 5D112BA01
, 5D112BA09
, 5D112BA10
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (6)
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記憶ディスクにおけるバリの処理方法及びその装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平8-078080
Applicant:北野エンジニアリング株式会社
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ディスク基盤成形金型
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平4-013508
Applicant:三菱樹脂株式会社
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特開平2-189718
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磁気デイスク用プラスチツク基板の成形方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平3-159090
Applicant:ソニー株式会社
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特開昭64-061233
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特開昭62-231733
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