高純度酸化チタンおよびその製造方法

Inventor： ,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：柿沼伸司
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2002078850
Publication number (International publication number)：2003277057
Application date： Mar. 20, 2002
Publication date： Oct. 02, 2003
Summary：

【要約】【課題】分散性の良い二酸化チタンが得られる火炎溶融法において、産業的に利用分野の広い、特に光触媒粉体やセラミックス成形体原料として好適な5μmから200μmの範囲の平均径を持つ、高純度で分散性の良い二酸化チタン、及びその製造方法を提供する。【解決の手段】気相法で得た分散性の良い二酸化チタンを原料として、火炎溶融法で、短い高温滞留時間で球状化した二酸化チタンを得る。

Claim (excerpt)：

二酸化チタンにおいて、レーザー式粒度分析法によって測定される平均粒径が5〜200μmの範囲内であり、TiO2としての純度が99.5質量%以上であり、Fe、Ni、Cr、Al及びZrがそれぞれ20質量ppm以下、Siが40質量ppm以下、Clが0.05質量%以下、及びSが50質量ppm以下であることを特徴とする二酸化チタン。

IPC (11)：

C01G 23/07 , A61K 7/00 , B01J 35/02 , B01J 35/08 , C08J 3/22 CER , C08J 5/00 CEZ , C08K 3/22 , C08L101/00 , C09D 7/12 , C09D 17/00 , C09D201/00

FI (11)：

C01G 23/07 , A61K 7/00 B , B01J 35/02 J , B01J 35/08 Z , C08J 3/22 CER , C08J 5/00 CEZ , C08K 3/22 , C08L101/00 , C09D 7/12 , C09D 17/00 , C09D201/00

F-Term (123)：

4C083AB241 , 4C083BB23 , 4C083CC01 , 4C083CC02 , 4C083CC19 , 4C083EE17 , 4F070AA02 , 4F070AA03 , 4F070AA13 , 4F070AA15 , 4F070AA18 , 4F070AA22 , 4F070AA23 , 4F070AA26 , 4F070AA28 , 4F070AA32 , 4F070AA42 , 4F070AA44 , 4F070AA45 , 4F070AA46 , 4F070AA47 , 4F070AA49 , 4F070AA50 , 4F070AA52 , 4F070AA53 , 4F070AA54 , 4F070AA60 , 4F070AC15 , 4F070FB03 , 4F071AA09 , 4F071AA10 , 4F071AA15 , 4F071AA20 , 4F071AA22 , 4F071AA24 , 4F071AA25 , 4F071AA26 , 4F071AA28 , 4F071AA29 , 4F071AA30 , 4F071AA33 , 4F071AA40 , 4F071AA41 , 4F071AA42 , 4F071AA43 , 4F071AA46 , 4F071AA47 , 4F071AA49 , 4F071AA50 , 4F071AA53 , 4F071AA54 , 4F071AA56 , 4F071AA68 , 4F071AA77 , 4F071AB18 , 4F071AD02 , 4F071AE17 , 4F071AH19 , 4F071BC01 , 4F071BC07 , 4G047CA02 , 4G047CB04 , 4G047CC02 , 4G047CC03 , 4G047CD04 , 4G047CD07 , 4G069AA08 , 4G069BA04A , 4G069BA04B , 4G069BA48A , 4G069DA05 , 4G069EA04X , 4G069EA04Y , 4G069FA01 , 4G069FA03 , 4G069FB23 , 4J002AB011 , 4J002AB041 , 4J002BB021 , 4J002BB111 , 4J002BC021 , 4J002BD031 , 4J002BD101 , 4J002BD121 , 4J002BE021 , 4J002BE061 , 4J002BF021 , 4J002BG041 , 4J002BN151 , 4J002CC031 , 4J002CC161 , 4J002CC181 , 4J002CD001 , 4J002CF011 , 4J002CF061 , 4J002CF211 , 4J002CG001 , 4J002CH021 , 4J002CK021 , 4J002CL001 , 4J002CP031 , 4J002DE136 , 4J002FD016 , 4J002GH00 , 4J002GT00 , 4J037AA22 , 4J037CC01 , 4J037CC11 , 4J037CC21 , 4J037DD05 , 4J037DD19 , 4J037EE28 , 4J038AA011 , 4J038EA011 , 4J038HA216 , 4J038KA04 , 4J038KA08 , 4J038KA20 , 4J038MA07 , 4J038MA08 , 4J038MA10 , 4J038NA25 , 4J038NA26

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (2)

光触媒活性酸化チタン粉末の製造方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平8-359604 Applicant：北海道, 株式会社タニメック
熱分解により製造された二酸化チタンをベースとする顆粒及びその製法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願2000-186693 Applicant：デグサ-ヒュルスアクチェンゲゼルシャフト

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