Pat

J-GLOBAL ID：200903013327672932

太陽電池の形成方法

Inventor： 高橋 宏明 ,  福井 健次 ,  白沢 勝彦
Applicant, Patent owner： 京セラ株式会社
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2000297618
Publication number (International publication number)：2002111015
Application date： Sep. 28, 2000
Publication date： Apr. 12, 2002
Summary：

【要約】【課題】 電極ペーストを焼き付ける際の雰囲気の酸素濃度が低いと電極の密着強度が低下するという問題があった。【解決手段】 一導電型半導体基板の一主面側に逆導電型不純物拡散層を形成するとともに、他の主面側に一導電型不純物の高濃度拡散層を形成し、この逆導電型不純物拡散層と一導電型不純物の高濃度拡散層に電極ペーストを焼き付けて電極を形成する太陽電池の形成方法であって、上記逆導電型不純物拡散層側の電極ペースト中の有機結合材としてポリエチレングリコールを用いて非酸化性雰囲気中で焼き付ける。

Claim (excerpt)：

一導電型半導体基板の一主面側に逆導電型不純物拡散層を形成するとともに、他の主面側に一導電型不純物の高濃度拡散層を形成し、この逆導電型不純物拡散層と一導電型不純物の高濃度拡散層に電極ペーストを焼き付けて電極を形成する太陽電池の形成方法において、前記逆導電型不純物拡散層側の電極ペースト中の有機結合材としてポリエチレングリコールを用いて非酸化性雰囲気中で焼き付けることを特徴とする太陽電池の形成方法。

F-Term (8)：

5F051BA11 ,  5F051CB24 ,  5F051CB27 ,  5F051FA10 ,  5F051FA13 ,  5F051FA14 ,  5F051FA15 ,  5F051GA04