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J-GLOBAL ID：200903013357490995

浄化槽

Inventor： 清水 康利 ,  出水 一弘 ,  辻 隆正 ,  野口 朋子
Applicant, Patent owner： 東陶機器株式会社
Agent (1)： 下田 容一郎 (外1名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1994101355
Publication number (International publication number)：1995308683
Application date： May. 16, 1994
Publication date： Nov. 28, 1995
Summary：

【要約】【目的】 メンテナンスフリーの浄化槽を提供する。【構成】 汚泥濃縮装置12は、上面が汚泥貯留槽12内の最低水位(L.W.L.)よりも下方となるようにケース13を浸漬し、このケース13上面に濾過スクリーン14を設け、またケース13上に上端が最高水位(H.W.L.)よりも高い位置となるフレーム15を立設し、このフレーム15の上端にモータ16を固着し、このモータ16によって濾過スクリーン14上面に接触若しくは微細な隙間を形成して配置されるブレード17を回転せしめるようにし、また、汚泥濃縮装置12のケース13の隔壁3に沿った部分にはエアリフト18を設けている。

Claim (excerpt)：

微生物によって原液を生物的に処理する生物反応槽と原液中あるいは生物反応槽内で発生した汚泥を貯留する汚泥貯留槽とを備えた浄化槽において、前記汚泥貯留槽内には汚泥濃縮装置が設けられ、この汚泥濃縮装置は上面が汚泥貯留槽内の最低水位よりも下方となるように汚泥貯留槽内に浸漬されたケースと、このケース上面に設けられる濾過スクリーンと、この濾過スクリーン上に堆積した濃縮汚泥を掻き取って汚泥貯留槽内に戻すブレードと、前記濾過スクリーンの上面側から下面側に向けて液が透過すべくこれらの間に圧力差を形成する圧力差形成手段と、濾過スクリーンを透過した液を生物反応槽に供給する透過液供給手段とからなることを特徴とする浄化槽。

IPC (3)：

C02F 3/00 ZAB ,  C02F 1/44 ZAB ,  C02F 11/00