Pat
J-GLOBAL ID：200903013361197801

表面分析装置

Inventor：
脇山 茂

About 脇山 茂

, 
藤野 直彦

About 藤野 直彦


Applicant, Patent owner：
セイコーインスツルメンツ株式会社

About セイコーインスツルメンツ株式会社

, 
三菱電機株式会社

About 三菱電機株式会社


Agent (1)： 林 敬之助
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1997330064
Publication number (International publication number)：1999160330
Application date： Dec. 01, 1997
Publication date： Jun. 18, 1999
Summary：
【要約】【課題】 ウェハ上にパターンがあるものに関してもビ-ム光照射によりウェハパターンによる散乱光を軽減し、異物散乱により異物の識別を可能にする手段を構成し、異物の位置検出可能手段を有する構成のプロ-ブ顕微鏡の提供を目的とするものである。【解決手段】 試料1が試料ホルダ2を介して、三次元動作ステージ3、4、5に搭載され前記試料1表面にビ-ム光発振器から発したビ-ム光がビ-ム光の偏光と異なる偏光素子7を介して、または、直接に照射される様になっており、前記ビ-ム光により散乱した前記試料1表面上の異物像をビ-ム光と異なる偏光素子8を介して、光学顕微鏡9に搭載された高感度CCDカメラ10を介してモニタ11上に表示する構成になっている。前記ビ-ム光を前記試料1表面上へ照射するまで持っていく方法としてビ-ム光を光ファイバーを用いる方法と鏡等の光学部品を用いる方法がある。
Claim (excerpt)：
試料と試料から受ける原子間力等の物理量を検出する機構を3次元的に相対運動させる、粗い位置決め的な粗動機構及び微細な位置決め的な微動機構と、前記試料と前記原子間力等の物理量を検出する機構間を一定の距離に保つ制御手段と、設置環境からくる装置への振動伝達を低減させる除振機構と、装置全体を制御する制御部及びコンピュータを有した構成からなり、前記試料表面にビ-ム光を照射するビ-ム光照射系と前記試料表面を観察する光学顕微鏡系を有し、前記試料上にある異物が照射されたビ-ム光により散乱することで前記光学顕微鏡系で位置を確認しえる機能を有した、試料表面形状および状態を観察するプロ-ブ顕微鏡において、前記ビ-ム光照射系側あるいは前記光学顕微鏡側に偏光素子を組み込み可能な構成を有しているプロ-ブ顕微鏡。
IPC (3)：
G01N 37/00 ,  G01N 21/88 ,  G02B 21/00
FI (3)：
G01N 37/00 A ,  G01N 21/88 E ,  G02B 21/00
Patent cited by the Patent：
Cited by examiner (4)
Show all

Return to Previous Page

TOP

BOTTOM