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J-GLOBAL ID：200903013362098297

ポジ型感放射線性組成物およびこれを用いたレジストパターンの製造方法

Inventor： 仁王 宏之 ,  田村 一貴 ,  妹尾 将秀
Applicant, Patent owner： 東レ株式会社
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2000352488
Publication number (International publication number)：2002156760
Application date： Nov. 20, 2000
Publication date： May. 31, 2002
Summary：

【要約】【課題】サブクォーターミクロンのパターン加工が可能な解像度を持ち、高感度なポジ型感放射線性組成物を得る。【解決手段】a)カルボキシル基を酸脱離基で保護した化合物およびb)放射線の照射によって酸を発生する酸発生剤を含有することを特徴とするポジ型感放射線性組成物であって、a)の酸脱離基が芳香環を3つ以上有することを特徴とするポジ型感放射線性組成物およびこれを用いたレジストパターンの製造方法。

Claim (excerpt)：

a)カルボキシル基を酸脱離基で保護した化合物およびb)放射線の照射によって酸を発生する酸発生剤を含有することを特徴とするポジ型感放射線性組成物であって、a)の酸脱離基が芳香環を3つ以上有することを特徴とするポジ型感放射線性組成物。

IPC (4)：

G03F 7/039 601 ,  C08K 5/00 ,  C08L 33/04 ,  H01L 21/027

FI (4)：

G03F 7/039 601 ,  C08K 5/00 ,  C08L 33/04 ,  H01L 21/30 502 R

F-Term (29)：

2H025AA00 ,  2H025AA01 ,  2H025AA02 ,  2H025AB08 ,  2H025AB16 ,  2H025AC06 ,  2H025AD03 ,  2H025BE00 ,  2H025BG00 ,  2H025FA01 ,  2H025FA03 ,  2H025FA12 ,  2H025FA17 ,  4J002BG041 ,  4J002BG051 ,  4J002BG071 ,  4J002BG081 ,  4J002EB116 ,  4J002EB126 ,  4J002EN136 ,  4J002EQ016 ,  4J002EU186 ,  4J002EV216 ,  4J002EV246 ,  4J002EV256 ,  4J002EV296 ,  4J002EV346 ,  4J002FD156 ,  4J002GP03