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J-GLOBAL ID：200903013374111949
露光パターンデータの補正方法
Inventor：
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：
有我 軍一郎
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1993233600
Publication number (International publication number)：1995094376
Application date： Sep. 20, 1993
Publication date： Apr. 07, 1995
Summary：
【要約】【目的】第1の補正処理と第2の補正処理の関係を適正化することにより、機種依存性の少ない露光パターンデータの補正方法を提供すること。【構成】露光パターンデータを構成する様々な大きさの矩形パターン又は非矩形パターンに対し、露光装置の露光エネルギー及び露光時間並びに露光パターンの大きさ及び間隔を考慮した第1の補正処理(近接効果補正処理)を行い、次に、露光対象の試料表面における熱的影響を考慮した第2の補正処理(つなぎ補正処理)を行う補正方法において、第1の補正処理を行う前のパターンデータに対して第2の補正処理を行い、且つ、第2の補正処理を行った後のパターンデータに対して第2の補正処理を行う前のパターンデータに対する第1の補正処理の補正量を適用することを特徴とする。
Claim (excerpt)：
露光パターンデータを構成する様々な大きさの矩形パターン又は非矩形パターンに対し、露光装置の露光エネルギー及び露光時間並びに露光パターンデータの大きさ及び間隔を考慮した第1の補正処理(10)を行い、次に、露光対象の試料表面における熱的影響を考慮した第2の補正処理(11)を行う補正方法において、第1の補正処理(10)を行う前のパターンデータに対して第2の補正処理(11)を行い、且つ、第2の補正処理(11)を行った後のパターンデータに対して第2の補正処理(11)を行う前のパターンデータに対する第1の補正処理(10)の補正量を適用することを特徴とする露光パターンデータの補正方法。
Patent cited by the Patent：
Cited by examiner (8)
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