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J-GLOBAL ID：200903013409802737

光デイスクの製造方法

Inventor： 山下 栄輝 ,  白井 良男
Applicant, Patent owner： ソニー株式会社
Agent (1)： 小池 晃 (外3名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1991230764
Publication number (International publication number)：1993047051
Application date： Aug. 19, 1991
Publication date： Feb. 26, 1993
Summary：

【要約】【構成】 2P法によってスタンパの凹凸パターンをディスク基板6面に転写するに際し、スタンパ10の外径をディスク基板6の外径よりも小さくするとともに、紫外線硬化樹脂9にスタンパを密着させた後、真空吸引によってディスク基板6の回りにはみ出た紫外線硬化樹脂を除去する。【効果】 ディスク基板6の回りに紫外線硬化樹脂がバリとして残存することがなく、内外径の精度が高いディスク基板が得られる。また、記録膜、反射膜を成膜するためのスパッタリングも良好な条件で行うことができる。

Claim (excerpt)：

ディスク基板の基板面に紫外線硬化樹脂を塗布した後、該紫外線硬化樹脂に凹凸パターンが形成されたスタンパを密着させて紫外線を照射し、光重合により硬化してスタンパの凹凸パターンを転写する光ディスクの製造方法において、上記スタンパの外径を上記ディスク基板の外径よりも小さくするとともに、紫外線硬化樹脂にスタンパを密着させた後、真空吸引によってディスク基板の回りにはみ出た余剰の紫外線硬化樹脂を除去することを特徴とする光ディスクの製造方法。