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J-GLOBAL ID：200903013429060818

反応性イオンエッチング方法

Inventor： ▲高▼橋 千春 ,  松尾 誠太郎
Applicant, Patent owner： 日本電信電話株式会社
Agent (1)： 鈴江 武彦
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1993238507
Publication number (International publication number)：1995094470
Application date： Sep. 24, 1993
Publication date： Apr. 07, 1995
Summary：

【要約】【目的】本発明は、真空容器壁に付着した反応生成物の再放出量を減少させる反応性イオンエッチング方法を提供することを目的とする。【構成】本発明は、反応性ガスを低ガス圧で励起してプラズマを生成し、パターン形成を行う反応性イオンエッチング方法において、上記反応性ガスとして塩素ガスに四フッ化炭素ガスと酸素ガスを添加した混合ガスを用いることを特徴とする。

Claim (excerpt)：

反応性ガスを低ガス圧で励起してプラズマを生成し、パターン形成を行う反応性イオンエッチング方法において、上記反応性ガスとして塩素ガスに四フッ化炭素ガスと酸素ガスを添加した混合ガスを用いることを特徴とする反応性イオンエッチング方法。

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (3)

• 特開平4-007822
  
• 特開平4-334022
  
• 特開昭55-111134