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J-GLOBAL ID：200903013452675510
成膜装置および成膜方法
Inventor：
Applicant, Patent owner：
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1993148542
Publication number (International publication number)：1994333857
Application date： May. 27, 1993
Publication date： Dec. 02, 1994
Summary：
【要約】【目的】 ステップカバレージが良好で高速成膜を行うことを目的とする。【構成】 一対の電極12と13、それらに直交して設けられた一対の電極15と16で構成される2組の電極それぞれにおいて、供給する高周波の位相を異ならせることによって、リサージュ波形を有す高周波電力を反応空間に印加し、基板19上に成膜を行う。
Claim (excerpt)：
平行平板型の一対の電極と、前記一対の電極の一方の電極上に該電極に対して平行に基板が配置され、前記基板に平行に高周波電界を印加する互いに直交した2組の電極と、前記基板に紫外線を照射する手段とを有した成膜装置であって、前記2組の電極にはリサージュ波形が印加され、前記平行平板型の一対の電極の間隔が10mm以下であることを特徴とする成膜装置。
IPC (4)：
H01L 21/205
, C23C 16/48
, C23C 16/50
, H01L 21/31
Cited by examiner (8)
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