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J-GLOBAL ID：200903013485881085

水浄化装置および水槽装置

Inventor： 齋藤 明子 ,  河野 仁志
Applicant, Patent owner： 東芝ライテック株式会社
Agent (1)： 小野田 芳弘
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1999008984
Publication number (International publication number)：2000201569
Application date： Jan. 18, 1999
Publication date： Jul. 25, 2000
Summary：

【要約】【課題】光触媒全体に紫外線を照射しやすくして浄化効率が高くて小形化が可能な水浄化装置およびこれを用いた水槽装置を提供する。【解決手段】被処理水を導入する導入口、処理水を導出する導出口および処理槽を備えた浄化装置本体の処理槽内に、フッ素樹脂製のメッシュを基体として基体に光触媒を担持させてなるフィルタを、被処理水がメッシュの光触媒に接触しながら通流するように配設するとともに、フィルタの光触媒物質に紫外線を照射するように紫外線照射手段を配設した。フィルタがガラス繊維製のメッシュを基体としているので、紫外線がメッシュの間を通過して紫外線照射手段から遠い位置にある光触媒をも活性化させることができ、浄化効率を高くできる。メッシュは、ガラス繊維製であるから、光触媒によって分解されることなく、安定しているとともに、被処理水に対しても悪影響を与えないし、被処理水に対する耐久性に優れている。

Claim (excerpt)：

被処理水を導入する導入口、処理水を導出する導出口および導入口と導出口との間に位置する処理槽を備えた浄化装置本体と;ガラス繊維製のメッシュを基体として基体に光触媒物質を担持させてなり、被処理水がメッシュの光触媒に接触しながら通流するように浄化装置本体の処理槽内に配設されたフィルタと;フィルタの光触媒物質に紫外線を照射するように配設された紫外線照射手段と;を具備していることを特徴とする水浄化装置。

IPC (4)：

A01K 63/04 ,  B01J 35/02 ,  C02F 1/32 ,  C02F 1/72 101

FI (5)：

A01K 63/04 F ,  A01K 63/04 A ,  B01J 35/02 J ,  C02F 1/32 ,  C02F 1/72 101

F-Term (22)：

2B104CA03 ,  2B104EA01 ,  2B104ED09 ,  2B104ED36 ,  2B104EE09 ,  2B104EF09 ,  2B104EF12 ,  4D037AA09 ,  4D037AB02 ,  4D037AB03 ,  4D037BA18 ,  4D037CA02 ,  4D050AA08 ,  4D050AB06 ,  4D050AB35 ,  4D050BB20 ,  4D050BC06 ,  4D050BC09 ,  4D050CA07 ,  4G069AA03 ,  4G069BA48A ,  4G069CA05