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J-GLOBAL ID：200903013508283164

IC製造における現像方法

Inventor： 米澤 真也
Applicant, Patent owner： ミツミ電機株式会社
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1991214516
Publication number (International publication number)：1994045245
Application date： Jul. 30, 1991
Publication date： Feb. 18, 1994
Summary：

【要約】【目的】ウエハ面内で現像処理を均一に行うことができる、IC製造における現像方法を提供する。【構成】ウエハ11を低回転で回転させながら、或いは静止させたまま、このウエハ11上に現像液16を盛り、現像液16を盛ったウエハ11の現像進行時間中に、これを回転させながら現像し、現像終了後、このウエハ11にリンス液18を注ぐようにしたものである。

Claim (excerpt)：

ウエハを低回転で回転させながら、或いは静止させたまま、該ウエハ上に現像液を盛り、該現像液を盛ったウエハの現像進行時間中に、これを回転させながら現像し、現像終了後、該ウエハにリンス液を注ぐようにしたことを特徴とする、IC製造における現像方法。

IPC (2)：

H01L 21/027 ,  G03F 7/30 502

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (3)

• 特開昭62-092441
  
• 特開平2-156245
  
• 特開昭55-096944