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J-GLOBAL ID:200903013513724730

レイヤー選択方法及びレイヤー属性編集方法

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1): 伊丹 勝
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1994177582
Publication number (International publication number):1996022490
Application date: Jul. 06, 1994
Publication date: Jan. 23, 1996
Summary:
【要約】【目的】 任意の図形要素が属するレイヤーの属性情報を簡単に選択し、修正する。【構成】 複数の図形要素は、それぞれが任意のレイヤーに属している。表示部4に表示された任意の図形要素を入力部1による選択動作に従って参照要素として選択する。参照要素が選択されると、その参照要素が属するレイヤーの属性情報が図形要素記憶部3から抽出され表示部4に表示される。表示部4に表示されたレイヤーの属性情報は、入力部4によって適宜編集処理される。編集後のレイヤーの属性情報は、図形要素記憶部3に再び格納される。
Claim (excerpt):
複数の図形要素のそれぞれが任意のレイヤーに属する形で記憶手段に記憶され、これらのレイヤーの任意の一つを選択するためのレイヤー選択方法において、表示手段に表示された任意の図形要素を入力手段による選択動作に従って指定するステップと、このステップで指定された図形要素を参照要素として前記記憶手段から選択するステップと、このステップで選択された参照要素が属するレイヤーの番号を上記参照要素の付属情報に基づいて認識するステップと、このステップで認識された番号のレイヤーの情報を前記記憶手段から選択するステップとを備えたことを特徴とするレイヤー選択方法。
IPC (2):
G06F 17/50 ,  G06T 11/80
FI (2):
G06F 15/60 310 ,  G06F 15/62 320 K
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (3)
  • 特開平4-312177
  • ICパターン設計システム
    Gazette classification:公開公報   Application number:特願平3-343704   Applicant:ローム株式会社
  • 特開平4-312177

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