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J-GLOBAL ID：200903013513763859

基礎化粧料

Inventor： 渡辺 博 ,  岡田 正紀
Applicant, Patent owner： ポーラ化成工業株式会社
Agent (1)： 遠山 勉 (外2名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1993031640
Publication number (International publication number)：1994247836
Application date： Feb. 22, 1993
Publication date： Sep. 06, 1994
Summary：

【要約】【目的】 肌に滑らかさやしっとり感を付与する効果に優れ、かつ、皮膚への吸着性が高い基礎化粧料を提供する。【構成】 化1で表されるスルホン酸変性シリコーンを基礎化粧料に配合する。【化1】ただし、各R1は独立に低級アルキル基又は非置換もしくは置換フェニル基を示し、R2は2〜11価の炭化水素残基を示し、その炭素-炭素一重結合は官能基の反応により生じる残基で中断されてもよく、また、Aはイソシアネート基と活性水素を持つ官能基との反応により生じる残基であり、R3はアリーレン基、直鎖又は分岐のアルキレン基、アルカリーレン基又はアラルキレン基を示し、Xは一価の金属、水素原子又は-H・X1(ここで、X1はアンモニア又はアミンを示す)を示し、また、mは50〜200の整数を示し、pは1〜10の整数を示す。

Claim (excerpt)：

化1で表されるスルホン酸変性シリコーンを含有する基礎化粧料。【化1】ただし、各R1は独立に低級アルキル基又は非置換もしくは置換フェニル基を示し、R2は2〜11価の炭化水素残基を示し、その炭素-炭素一重結合は官能基の反応により生じる残基で中断されてもよく、また、Aはイソシアネート基と活性水素を持つ官能基との反応により生じる残基であり、R3はアリーレン基、直鎖又は分岐のアルキレン基、アルカリーレン基又はアラルキレン基を示し、Xは一価の金属、水素原子又は-H・X1(ここで、X1はアンモニア又はアミンを示す)を示し、また、mは50〜200の整数を示し、pは1〜10の整数を示す。

IPC (2)：

A61K 7/48 ,  A61K 7/00