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J-GLOBAL ID：200903013523827952

放射線感光材料及びパターン形成方法

Inventor： 武智 敏 ,  小太刀 明子
Applicant, Patent owner： 富士通株式会社
Agent (1)： 北野 好人
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1993338112
Publication number (International publication number)：1995196743
Application date： Dec. 28, 1993
Publication date： Aug. 01, 1995
Summary：

【要約】【目的】本発明は、電子線を露光源とするリソグラフィにおいて使用する、優れた透明性及びエッチング耐性のみならず、高感度で、剥がれの少ない放射線感光材料及びパターン形成方法を提供することを目的とする。【構成】メタクリル酸アダマンチルモノマとα-クロロアクリル酸メチルモノマとを2:1の割合で仕込み、開始剤AIBNを添加し、加熱した後、メタノールに沈澱させて精製し、次式【化4】で示される、組成比53:47、重量平均分子量57000の共重合体を得た。このポリマをシクロヘキサノンに溶かしたレジスト溶液をSiウェーハ上に塗布し、プリベークした後、電子線露光及び現像をした。このとき露光エネルギーの閾値エネルギーEthは3μC/cm<SP>2 </SP>で、0.4μm幅のL&Sを解像した。

Claim (excerpt)：

一般式【化1】(式中、R1 及びR2 はそれぞれ水素原子又はメチル基を表す。)で示されるメタクリル酸アダマンチル又はその誘導体とα位が電子吸引基で置換されたビニルモノマとを含む共重合体からなることを特徴とする放射線感光材料。

IPC (2)：

C08F220/20 MMG ,  H01L 21/027