欠陥検査方法及び外観検査装置

Inventor：
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：平木祐輔
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2005212978
Publication number (International publication number)：2007033073
Application date： Jul. 22, 2005
Publication date： Feb. 08, 2007
Summary：

【課題】欠陥検出の安定性を向上させる。【解決手段】第一の閾値と、それより低い第二の閾値を用いる。ダイ比較の場合には、閾値処理部52a,52bにおいて、検査チップの画像と左右のチップの画像との差画像をそれぞれ第二の閾値で閾値判定し、検査チップの欠陥候補を求める。さらに、閾値処理部51a、51bにおいて、検査チップの画像と左右のチップの画像との差画像をそれぞれ第一の閾値で閾値判定し、先の第二の閾値による処理で欠陥候補となったもののうち、少なくとも左右どちらかのチップとの差画像で第一の閾値以上の信号がでているものを欠陥として検出する。セル比較の場合にも、差画像を、まず第二の閾値で処理して欠陥候補を求め、さらに、差画像を第一の閾値でも処理し、先の第二の閾値による処理で欠陥候補となったもののうち、2つのピークのうち少なくとも一方で第一の閾値以上の信号がでているものを欠陥として検出する。【選択図】図1

Claim (excerpt)：

被検査物の、それぞれ同等のパターンが形成された異なる3箇所の画像を取得する工程と、第1の画像と第2の画像の差を第1の閾値で処理する第1の処理工程と、第1の画像と第2の画像の差を前記第1の閾値より小さい第2の閾値で処理する第2の処理工程と、第2の画像と第3の画像の差を前記第1の閾値で処理する第3の処理工程と、第2の画像と第3の画像の差を前記第2の閾値で処理する第4の処理工程と、前記第2の処理工程と第4の処理工程でともに第2の閾値を超えた画素を欠陥候補とする工程と、前記欠陥候補のうち、前記第1の処理工程と第3の処理工程の少なくとも一方で前記第1の閾値を超えた画素を欠陥と判定する工程とを有することを特徴とする欠陥検査方法。

IPC (3)：

G01N 21/956 , G06T 1/00 , H01L 21/66

FI (3)：

G01N21/956 Z , G06T1/00 305A , H01L21/66 J

F-Term (37)：

2G051AA51 , 2G051AA56 , 2G051AA61 , 2G051AB01 , 2G051AB02 , 2G051BA05 , 2G051BA10 , 2G051BA20 , 2G051CA03 , 2G051CA04 , 2G051DA07 , 2G051DA08 , 2G051EA08 , 2G051EB01 , 2G051EB02 , 2G051ED07 , 4M106AA01 , 4M106AA09 , 4M106BA04 , 4M106BA05 , 4M106CA39 , 4M106CA41 , 4M106DB04 , 4M106DJ14 , 4M106DJ18 , 4M106DJ20 , 4M106DJ27 , 5B057AA03 , 5B057BA02 , 5B057CA08 , 5B057CA12 , 5B057CA16 , 5B057CH20 , 5B057DA03 , 5B057DB02 , 5B057DB09 , 5B057DC32

Patent cited by the Patent：

Cited by applicant (2)

特開昭61-212708号公報
特開平2-170279号公報

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