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J-GLOBAL ID:200903013536983210

基板処理装置およびそれに用いられる処理槽

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1): 小笠原 史朗
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1994287825
Publication number (International publication number):1996148464
Application date: Nov. 22, 1994
Publication date: Jun. 07, 1996
Summary:
【要約】【目的】 小型でかつ安価な基板処理装置およびそれに用いられる処理槽を提供することである。【構成】 複数枚の基板20を収納した処理槽21が搬送ロボットで搬送されて減圧チャンバ40内に収納される。このとき、減圧チャンバ内の受け台41は、処理槽21の底部をシールされた状態で保持する。次に、減圧チャンバ40の外部から供給された薬液または純水が、注入管25に供給される。したがって、処理槽内に薬液または純水が注入される。また、処理槽21から排出された薬液または純水が、バルブ72〜74を介して減圧チャン40バの外部に排出される。これら一連の作業によって、減圧チャンバ内で基板20の薬液処理と洗浄処理とが行われる。次に、バルブ79を介して、減圧チャンバ内が減圧され、基板20が乾燥させられる。このように、1つの減圧チャンバ内で基板の薬液処理と洗浄処理と乾燥処理とが行えるため、小型でかつ安価な基板処理装置が得られる。
Claim (excerpt):
閉鎖された空間内で複数枚の基板に対して所定の処理を施す装置であって、その上面と下面とが開口した箱形形状を有し、かつその内部に前記複数枚の基板を収納し、さらにその底部近傍には薬液および/または純水を注入するための注入管が一体的に設けられた可搬型の処理槽と、その上面に開閉可能な蓋を有し、当該蓋が閉じられたとき内部が密閉されるチャンバと、前記基板を収納した処理槽を搬送して前記チャンバ内に収納する搬送手段と、前記チャンバの内底部に設けられ、前記処理槽の底部をシールされた状態で保持する受け台と、前記チャンバに関連して設けられ、前記注入管に外部からの薬液および/または純水を供給する供給手段と、前記チャンバに関連して設けられ、前記処理槽から排出された薬液および/または純水を外部に排出する排出手段と、前記チャンバに関連して設けられ、当該チャンバ内を真空排気して減圧することにより、前記基板を乾燥させる減圧乾燥手段とを備え、前記チャンバ内で前記基板の薬液処理と洗浄処理と乾燥処理とを行うことを特徴とする、基板処理装置。
IPC (4):
H01L 21/304 351 ,  H01L 21/304 341 ,  H01L 21/304 ,  H01L 21/304 361

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