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J-GLOBAL ID：200903013542806214

イオンプレーティング装置

Inventor： 清水 康司
Applicant, Patent owner： 日本電子株式会社
Agent (1)： 井島 藤治 (外1名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1992164708
Publication number (International publication number)：1994002120
Application date： Jun. 23, 1992
Publication date： Jan. 11, 1994
Summary：

【要約】【目的】 プラズマ電子銃からの電子の利用効率が優れたイオンプレーティング装置を実現する。【構成】 プラズマ電子銃9から射出口Eを通ってチャンバー1内に導入された電子ビームは4枚の絶縁板25a〜25dによってその進行方向の制限が行われる。各絶縁板25a〜25dは、最初に拡散してきた電子ビームが衝突するが、この電子ビームの衝突によって負に帯電し、その後は電子ビームに対して反射板として作用する。従って、射出口Eからの電子ビームは絶縁板25a〜25dによってその進行方向が制限されルツボ2(蒸発源)上に指向される。また、ルツボ2の上部に向かう電子ビームは、絶縁板26a〜26cによって反射され、ルツボ2の上部の蒸発粒子の密度の高い領域を進行する。

Claim (excerpt)：

チャンバーと、チャンバー内に設けられた蒸発源と、蒸発源から蒸発した粒子が付着される基板と、チャンバーの側部に設けられ、チャンバー内の蒸発粒子をイオン化するための電子ビームを発生するプラズマ電子銃と、チャンバー内に設けられ、プラズマ電子銃からの電子ビームの進行方向を制御するための絶縁板とを備えたイオンプレーティング装置。