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J-GLOBAL ID：200903013547200152

マイクロバブル供給方法とその装置及びシステム

Inventor： 佐藤 茂雄 ,  照井 竜郎 ,  山田 雄司 ,  古川 誠司
Applicant, Patent owner： 株式会社明電舎 ,  アタカ大機株式会社 ,  株式会社日立プラントテクノロジー ,  三菱電機株式会社
Agent (2)： 橋本 剛 ,  鵜澤 英久
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2005376318
Publication number (International publication number)：2007175606
Application date： Dec. 27, 2005
Publication date： Jul. 12, 2007
Summary：

【課題】マイクロバブルの性質及び性能を発揮できる十分な微細の気泡を反応プロセスに供給する。【解決手段】活性汚泥法に基づく反応プロセスにおける曝気槽52内に膜ろ過装置11が設置され、膜ろ過装置11が曝気槽52内に滞留する活性汚泥混合液の一部をろ過処理した後に、マイクロバブル発生装置54が気体と共に膜ろ過装置11から排出されたろ過処理水を導入して生成したマイクロバブル混合液を曝気槽52に返送する。前記反応プロセスは活性汚泥法の他に膜分離活性汚泥法が例示される。前記反応プロセスにおいては、最初沈殿槽51越流水または最終沈殿槽53以降の工程で得られた二次処理水及び三次処理水若しくはこれらを組み合わせたものをマイクロバブル発生装置54に供給してもよい。以上のマイクロバブル注入方法は活性汚泥法以外の反応プロセスにも適用できる。【選択図】図1

Claim (excerpt)：

反応プロセスにマイクロバブルを供給する方法であって、 溶媒を滞留させる溶媒槽内に膜ろ過装置が設置され、 前記膜ろ過装置が前記溶媒の一部をろ過処理した後に、 マイクロバブル発生装置が気体と前記膜ろ過装置から排出されたろ過処理水とを導入して生成したマイクロバブル混合溶媒を前記溶媒槽に返送し、 この溶媒槽内のマイクロバブル混合溶媒を前記反応プロセスに供給すること を特徴とするマイクロバブル供給方法。

IPC (4)：

C02F 3/12 ,  C02F 3/22 ,  C02F 1/44 ,  B01F 3/04

FI (5)：

C02F3/12 S ,  C02F3/22 Z ,  C02F3/12 B ,  C02F1/44 F ,  B01F3/04 A

F-Term (19)：

4D006GA06 ,  4D006GA07 ,  4D006HA93 ,  4D006KA01 ,  4D006KA31 ,  4D006KB22 ,  4D006PA01 ,  4D006PB08 ,  4D006PC62 ,  4D028AC03 ,  4D028AC09 ,  4D028BC11 ,  4D028BC17 ,  4D028BC26 ,  4D028BD06 ,  4D028BD17 ,  4D029AB06 ,  4D029CC05 ,  4G035AB05

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (2)

• 排水処理システム
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願2003-026057   Applicant：鈴木産業株式会社
• 有機性排水の処理方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願2005-257198   Applicant：三菱化工機株式会社