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J-GLOBAL ID：200903013584202521
フ-リエ分光法を用いた厚み測定方法
Inventor：
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：
青木 健二 (外7名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1999013091
Publication number (International publication number)：2000213919
Application date： Jan. 21, 1999
Publication date： Aug. 04, 2000
Summary：
【要約】【課題】リファレンス試料を不要にして試料測定のためにかかる手間と時間を低減しながら、しかもより正確な測定結果を得る。【解決手段】FT-IRで測定された試料の測定インターフェログラムからフーリエ変換でスペクトルに変換するとき、サイドバーストを含まない窓関数Aとサイドバーストを含む窓関数Bとが用意される。これらの窓関数A,Bと測定インターフェログラムとを掛けてインターフェログラムを計算し、このインターフェログラムをフーリエ変換することで、それぞれ2つのスペクトルを求める。これらの2つのチャネルスペクトルを割り算することでチャネルスペクトルを取り出す。最後に、取り出したチャネルスペクトルを用いてセプトラムを計算し、得られたセプトラムのピークから試料の厚みdを計算する。
Claim (excerpt)：
フーリエ分光装置を用いて試料を測定することにより試料の測定インターフェログラムを求めるとともに、この測定インターフェログラムに現れるサイドバーストを含まない窓関数とサイドバーストを含む窓関数とを用意し、これらの窓関数と前記測定インターフェログラムとを掛けることで得られるインターフェログラムをフーリエ変換することにより、それぞれ2つのスペクトルを求め、これらの2つのチャネルスペクトルを割り算することでチャネルスペクトルを取り出し、取り出したチャネルスペクトルを用いてセプトラムを計算し、得られたセプトラムのピークから試料の厚みを計算することを特徴とするフーリエ分光法を用いた厚み測定方法。
IPC (2)：
FI (2)：
Patent cited by the Patent：
Cited by examiner (2)
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インターフェログラムの処理方法および処理回路
Gazette classification：公開公報
Application number：特願平8-217969
Applicant：株式会社堀場製作所
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特開昭61-140806
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