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J-GLOBAL ID：200903013600801490

流動層ガス化炉のフリーボード高温化方法及び応用装置

Inventor： 許 光文 ,  村上 高広 ,  須田 俊之 ,  劉 志宏 ,  松澤 克明
Applicant, Patent owner： 株式会社IHI
Agent (1)： 長門 侃二
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2006109729
Publication number (International publication number)：2007284470
Application date： Apr. 12, 2006
Publication date： Nov. 01, 2007
Summary：

【課題】流動層ガス化炉のフリーボードにおいて生成ガスの発熱量を低下させることなく生成ガス中のタールの分解を促進可能な流動層ガス化炉のフリーボード高温化方法及び応用装置を提供する。【解決手段】フリーボード(14)に複数の配管(16)を貫通させてこれら複数の配管に高温ガスを流通させ、フリーボード(14)に高温の粒子を一時的に貯留してフリーボード流動層(19)を形成する。【選択図】図3

Claim (excerpt)：

流動層ガス化炉の粒子流動層で固体燃料を熱分解ガス化することにより生成された生成ガス中のタールを分解させるべく該粒子流動層の上方のフリーボードを高温化する流動層ガス化炉のフリーボード高温化方法であって、 前記フリーボードに複数の配管を貫通させ、該複数の配管に高温ガスを流通させることを特徴とする流動層ガス化炉のフリーボード高温化方法。

IPC (1)：

C10J 3/00

FI (1)：

C10J3/00 K

Patent cited by the Patent：

Cited by applicant (1)

• バイオマスのガス化方法およびガス化装置
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願2002-352918   Applicant：川崎重工業株式会社

Cited by examiner (2)

• 流動層ガス化ガス精製方法及び精製装置
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願2005-027864   Applicant：石川島播磨重工業株式会社
• 有機性廃棄物の資源化方法及び資源化装置
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平9-202628   Applicant：株式会社荏原製作所, 宇部興産株式会社