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J-GLOBAL ID：200903013637052667

極低温冷凍装置

Inventor： 五十嵐 基仁 ,  古澤 孝之 ,  中尾 裕行 ,  山口 達也 ,  富岡 計次 ,  栗原 利行
Applicant, Patent owner： 東海旅客鉄道株式会社 ,  株式会社東芝 ,  ダイキン工業株式会社
Agent (1)： 前田 弘 (外1名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1999287943
Publication number (International publication number)：2001108320
Application date： Oct. 08, 1999
Publication date： Apr. 20, 2001
Summary：

【要約】【課題】不純物を除去する際、低温部の昇温を抑制すると同時に、液体ヘリウムの蒸発を抑制する。【解決手段】高圧ヘリウムガスをジュールトムソン膨張させて極低温を発生させるJT冷凍機(20)と、JT冷凍機(20)の高圧ヘリウムガスを予冷する予冷冷凍機(30)とを設けている。JT冷凍機(20)の圧縮機(21,22)から吐出したヘリウムガスを第1熱交換器(40)の高圧通路(41)に逆方向に供給し、高圧通路(41)の不純物を除去するための供給配管(70)を設けている。また、ヘリウムガスを加熱するヒータ(H1,H2,H3)を設けている。更に、第1熱交換器(40)を流れたヘリウムガスを圧縮機(21,22)に戻すための戻し配管(71)を設けている。戻し配管(71)には吸着器(72)を設けている。

Claim (excerpt)：

高圧冷媒ガスをジュールトムソン膨張させて極低温を発生させる一方、上記高圧冷媒ガスと低圧冷媒ガスを熱交換させる複数の熱交換器(40,50,60)が設けられたJT冷凍機(20)と、該JT冷凍機(20)の高圧冷媒ガスを予冷する予冷冷凍機(30)とを備えた極低温冷凍装置において、上記JT冷凍機(20)の圧縮機(21,22)から吐出した冷媒ガスを少なくとも1つの熱交換器(40)の高圧通路(41)に供給し、該高圧通路(41)の不純物を除去するための供給通路(70)が設けられている極低温冷凍装置。

IPC (2)：

F25B 9/00 ,  F25B 9/00 395

FI (2)：

F25B 9/00 G ,  F25B 9/00 395 Z

Patent cited by the Patent：

Cited by applicant (1)

• 特開昭62-252861
  

Cited by examiner (1)

• 特開昭62-252861