Pat
J-GLOBAL ID:200903013637689827
新規なエピスルフィド化合物
Inventor:
,
Applicant, Patent owner:
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1998224770
Publication number (International publication number):1999180977
Application date: Aug. 07, 1998
Publication date: Jul. 06, 1999
Summary:
【要約】【課題】 良好な屈折率とアッベ数のバランスを有する光学材料に高い耐熱性と強度を同時に付与した新規な含硫黄化合物を提供すること。【解決手段】下記(1)式で表される構造を少なくとも1個以上有する新規なエピスルフィド化合物。【化1】(式中、XはSまたはOを表し、このSの個数は三員環を構成するSとOの合計に対して平均で50%以上である。R1 、R2 、R3 はそれぞれ炭素数1〜10の炭化水素基または水素を示し、R4 は炭素数0〜10の炭化水素鎖を表す。)
Claim (excerpt):
下記(1)式で表されるエピスルフィド構造を1個以上有する化合物。【化1】(式中、XはSまたはOを表し、このSの個数は三員環を構成するSとOの合計に対して平均で50%以上である。R1 、R2 、R3 はそれぞれ炭素数1〜10の炭化水素基または水素を示し、R4 は炭素数0〜10の炭化水素鎖を表す。ただし、下記(2)式および(3)式で表されるエピスルフィド化合物と環状骨格を有するエピスルフィド化合物を除く。)【化2】【化3】
IPC (6):
C07D331/02
, C08G 59/30
, C08G 75/06
, G02B 1/04
, G02C 7/02
, C07D303/34
FI (6):
C07D331/02
, C08G 59/30
, C08G 75/06
, G02B 1/04
, G02C 7/02
, C07D303/34
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (3)
-
新規なエピスルフィド化合物
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平9-006790
Applicant:三菱瓦斯化学株式会社
-
新規チオール誘導体及びその製造方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平7-179500
Applicant:住友精化株式会社
-
新規な(チオ)エポキシ化合物
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平9-334533
Applicant:三井化学株式会社
Return to Previous Page