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J-GLOBAL ID：200903013651159490
排気ガス浄化触媒形成方法
Inventor：
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：
杉信 興
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1991322651
Publication number (International publication number)：1993154393
Application date： Dec. 06, 1991
Publication date： Jun. 22, 1993
Summary：
【要約】【目的】 真空成膜法による製造する触媒コンバ-タの浄化効率の向上および真空成膜法により形成される触媒層の耐剥離性の向上。【構成】 耐熱性金属帯の表面を真空ア-ク放電処理して粗面化した後、真空成膜法によりガス浄化触媒層を形成する。【効果】 体積に対して広面積の触媒層を有するので排気ガス浄化効率が高い。触媒層の付着が強固であり耐久性が高い。実質上一つ又は連続の真空チャンバ内で実質上連続した工程で、効率良くしかも錆を生ずることなく、触媒層の形成を行ない得る
Claim (excerpt)：
耐熱性金属帯の表面を真空ア-ク放電処理して粗面化した後、真空成膜法によりガス浄化触媒層を形成することを特徴とする、排気ガス浄化触媒形成方法。
IPC (4)：
B01J 37/02 301
, B01D 53/36
, C23C 14/56
, C23C 16/06
