Pat

J-GLOBAL ID：200903013662306916

X線マスク用バックエッチング装置

Inventor： 太田 恒明 ,  野田 周一 ,  法元 寛
Applicant, Patent owner： 沖電気工業株式会社
Agent (1)： 船橋 國則
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1993277794
Publication number (International publication number)：1995111258
Application date： Oct. 08, 1993
Publication date： Apr. 25, 1995
Summary：

【要約】【目的】 KOH等のエッチング溶液の量や濃度が変化してSi基板の裏面にかかる力が変化しても、Si基板の表側にかかる力を裏側と常に等しくなるようにしてメンブレンが変形したり、破損したりするのを防ぐことができるX線マスク用バックエッチング装置を提供する。【構成】 内部に空気が入れられ、エッチング溶液3の液面からの高さがSi基板6が装着される開口部7と同じ位置に形成されている開口部5と上記開口部7に配置されたSi基板6の表面の間をパイプ4,11等により気密に接続し、Si基板6の裏面に加わっている圧力と同じ圧力を常にSi基板6の表面に加えるようにし、バックエッチ工程が終了に向かうに従ってエッチング溶液3の量や濃度が変化し、これに伴ってSi基板6の裏側にかかる圧力が変化しても、Si基板6の表側にかかる圧力が裏側と常に等しくなるようにした。

Claim (excerpt)：

表面側にX線吸収パターンを有するX線透過性のメンブレンを設けた基板の裏面にエッチング溶液を触れさせて前記基板の一部分をエッチング除去し、前記メンブレンの表裏面を露出させてX線マスクを形成するX線マスク用バックエッチング装置において、前記エッチング溶液が入れられる容器と、前記容器に設けられ、エッチングして除去するための前記一部分を前記エッチング溶液に触れさせるための開口を有し、この開口を塞いで前記基板が取り外し自在に装着される基板装着部と、前記容器の前記基板装着部と前記エッチング溶液の液面からの高さが略同じ位置に形成された開口部と、内部に空気が入れられ、前記開口部と前記基板装着部に配設された前記基板の表面との間を気密に接続するためのパイプ手段とを備え、前記基板の裏面に加わっている圧力と同じ圧力を前記パイプ手段を介して前記基板の表面に加えるようにしたことを特徴とするX線マスク用バックエッチング装置。

IPC (2)：

H01L 21/306 ,  H01L 21/027

FI (2)：

H01L 21/306 J ,  H01L 21/30 531 M