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J-GLOBAL ID：200903013682867400

フオトレジスト塗布装置

Inventor： 内山 貴之
Applicant, Patent owner： 日本電気株式会社
Agent (1)： 菅野 中
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1991331464
Publication number (International publication number)：1993144721
Application date： Nov. 20, 1991
Publication date： Jun. 11, 1993
Summary：

【要約】【目的】 塗布カップ内の気圧の変動に拘らず、一定の膜厚のフォトレジスト膜を得る。【構成】 塗布カップ109内の気圧を気圧検知部110により検知し、データ演算部111は、その検知信号に基づいてモーター103の回転数を決定し、その出力によりモーター回転制御部104による制御の下にモーター103でウェハ101を回転させフォトレジストの塗布を行う。

Claim (excerpt)：

気圧検知部と、塗布条件制御手段とを有し、塗布カップ内に半導体基板を回転させて該基板表面にフォトレジストを塗布するフォトレジスト塗布装置であって、気圧検知部は、塗布カップ内の気圧を検知するものであり、塗布条件制御手段は、気圧検知部の検知信号に基づいて、半導体基板の回転数又は塗布カップ内湿度を変更して塗布条件を制御するものであることを特徴とするフォトレジスト塗布装置。

IPC (4)：

H01L 21/027 ,  B05C 11/08 ,  B05D 1/40 ,  G03F 7/16 502

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (4)

• 特開昭63-262842
  
• 特開平2-224220
  
• 特開昭63-294965
  
• 特開平2-307566