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J-GLOBAL ID：200903013689791786

ポジ型レジスト組成物およびレジストパターン形成方法

Inventor： 内海 義之 ,  清水 宏明 ,  吉井 靖博
Applicant, Patent owner： 東京応化工業株式会社
Agent (4)： 棚井 澄雄 ,  志賀 正武 ,  鈴木 三義 ,  柳井 則子
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2007235764
Publication number (International publication number)：2008134607
Application date： Sep. 11, 2007
Publication date： Jun. 12, 2008
Summary：

【課題】ポジ型レジスト組成物及び該ポジ型レジスト組成物を用いるレジストパターン形成方法の提供。【解決手段】酸の作用によりアルカリ溶解性が増大する樹脂成分(A)および露光により酸を発生する酸発生剤成分(B)を含有し、前記樹脂成分(A)が、下記一般式(II)で表される構成単位(a1)からなる重合体(A2)を含有することを特徴とするポジ型レジスト組成物。【選択図】なし

Claim (excerpt)：

酸の作用によりアルカリ溶解性が増大する樹脂成分(A)および露光により酸を発生する酸発生剤成分(B)を含有し、 前記樹脂成分(A)が、下記一般式(II)で表される構成単位(a1)からなる重合体(A2)を含有することを特徴とするポジ型レジスト組成物。

IPC (3)：

G03F 7/039 ,  C08F 20/22 ,  H01L 21/027

FI (3)：

G03F7/039 601 ,  C08F20/22 ,  H01L21/30 502R

F-Term (36)：

2H025AA02 ,  2H025AA04 ,  2H025AB16 ,  2H025AC04 ,  2H025AC05 ,  2H025AC06 ,  2H025AC08 ,  2H025AD03 ,  2H025BE07 ,  2H025BF02 ,  2H025BG00 ,  2H025FA01 ,  2H025FA10 ,  2H025FA12 ,  2H025FA17 ,  4J100AL08P ,  4J100AL08Q ,  4J100AL08R ,  4J100AL08S ,  4J100BA02Q ,  4J100BA03S ,  4J100BA11Q ,  4J100BA15Q ,  4J100BA40S ,  4J100BB18P ,  4J100BC02Q ,  4J100BC03Q ,  4J100BC08Q ,  4J100BC09Q ,  4J100BC09S ,  4J100BC12Q ,  4J100BC12R ,  4J100BC53R ,  4J100CA05 ,  4J100CA06 ,  4J100JA38