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J-GLOBAL ID：200903013694124909

位相シフト干渉縞の同時計測方法及び装置

Inventor： 川崎 和彦 ,  光谷 直樹 ,  配野 宏 ,  西沖 暢久
Applicant, Patent owner： 株式会社ミツトヨ
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1998164291
Publication number (International publication number)：1999337321
Application date： May. 28, 1998
Publication date： Dec. 10, 1999
Summary：

【要約】【課題】 空気揺らぎの影響を受けにくい共通光路型であり、光学部品の面精度の影響を受けずに、比較的高精度の測定を行うことができる位相シフト干渉縞の同時計測方法及び装置を得るにある。【解決手段】 直交偏光状態の参照光と計測光からなる無干渉光束を発生させ、この無干渉光束を複数の無干渉分光光束に分割し、これらの各無干渉分光光束に含まれる参照光及び計測光のいずれか一方の位相を波長板を用いて無干渉分光光束ごとに異った状態に遅延させると共に、同遅延光と残る参照光及び計測光の他方に干渉させて無干渉分光光束ごとに異なった位相の複数の光学的干渉縞を同時的に得る位相シフト干渉縞の同時計測方法。

Claim (excerpt)：

直交偏光状態の参照光と計測光からなる無干渉光束を発生させ、この無干渉光束を複数の無干渉分光光束に分割し、これらの各無干渉分光光束に含まれる参照光及び計測光のいずれか一方の位相を波長板を用いて無干渉分光光束ごとに異った状態に遅延させると共に、同遅延光と残る参照光及び計測光の他方に干渉させて無干渉分光光束ごとに異なった位相の複数の光学的干渉縞を同時的に得ることを特徴とする位相シフト干渉縞の同時計測方法。

IPC (2)：

G01B 11/24 ,  G01B 9/02

FI (2)：

G01B 11/24 C ,  G01B 9/02

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (1)

• 微小変位量の測定方法及び装置
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平5-083039   Applicant：株式会社リコー