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J-GLOBAL ID：200903013731238057

ポジ型レジスト組成物

Inventor： 神田 博美 ,  水谷 一良
Applicant, Patent owner： 富士写真フイルム株式会社
Agent (5)： 小栗 昌平 ,  本多 弘徳 ,  市川 利光 ,  高松 猛 ,  濱田 百合子
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2003158304
Publication number (International publication number)：2004361578
Application date： Jun. 03, 2003
Publication date： Dec. 24, 2004
Summary：

【課題】250nm以下、特にF2エキシマレーザー光(157nm)の露光光源の使用に好適なポジ型レジスト組成物を提供することであり、具体的には157nmの光源使用時に十分な透過性を示し、現像液親和性、画像形成性の諸特性に優れたポジ型レジスト組成物を提供する。【解決手段】(A)α位にフッ素原子又はフルオロアルキル基を有するビニルエーテルに由来する特定の繰り返し単位及びビニルエーテルに由来する特定の繰り返し単位を有する、酸の作用によりアルカリ現像液への溶解性が増大する樹脂、及び、(B)活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物を含有することを特徴とするポジ型レジスト組成物。【選択図】 なし

Claim (excerpt)：

(A)下記一般式(A1)で表される繰り返し単位及び下記一般式(A2)で表される繰り返し単位を有する、酸の作用によりアルカリ現像液への溶解性が増大する樹脂及び (B)活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物 を含有することを特徴とするポジ型レジスト組成物。

IPC (5)：

G03F7/039 ,  C08F216/14 ,  C08F220/24 ,  C08F232/00 ,  H01L21/027

FI (5)：

G03F7/039 601 ,  C08F216/14 ,  C08F220/24 ,  C08F232/00 ,  H01L21/30 502R

F-Term (41)：

2H025AA01 ,  2H025AA02 ,  2H025AA04 ,  2H025AB14 ,  2H025AC04 ,  2H025AC08 ,  2H025AD03 ,  2H025BE00 ,  2H025BE10 ,  2H025BG00 ,  2H025CB08 ,  2H025CB13 ,  2H025CB14 ,  2H025CB43 ,  2H025CB45 ,  2H025FA17 ,  4J100AB07P ,  4J100AC28P ,  4J100AD07P ,  4J100AE09P ,  4J100AE09Q ,  4J100AE38Q ,  4J100AL26R ,  4J100AM03R ,  4J100AR11R ,  4J100AR32P ,  4J100BA02P ,  4J100BA03P ,  4J100BA03Q ,  4J100BA03R ,  4J100BB18P ,  4J100BB18Q ,  4J100BB18R ,  4J100BC08P ,  4J100BC08Q ,  4J100BC09R ,  4J100BC53Q ,  4J100CA05 ,  4J100DA01 ,  4J100DA04 ,  4J100JA38