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J-GLOBAL ID：200903013734029041

プラスチツクビームスプリツター

Inventor： 小林 健志 ,  関根 熊二郎
Applicant, Patent owner： セキノス株式会社
Agent (1)： 斎藤 美晴
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1991331179
Publication number (International publication number)：1993142499
Application date： Nov. 20, 1991
Publication date： Jun. 11, 1993
Summary：

【要約】【目的】 プラスチックの有する自由形状性を生かして高精度の面精度を維持しながら低コストで大量生産でき、さらに非点収差方式における非点隔差を面間隔(光軸上)を変化せずに自在に制御可能とし、しかも合焦時のスポット形状を円形にする。【構成】 射出成形法によって、PMMAからなる断面H鋼型形状のプラスチック基材9を形成した。反射面である平面の第1面10には、プラスチック基材9上に第1層11としてケイ素(Si)のλ/4膜を形成し、さらに第2層12として二酸化ケイ素(SiO2 )のλ/4膜を形成し、2層膜構造の無偏光膜を形成た。第2面13は凹状円筒面に形成した。

Claim (excerpt)：

レーザー光学系のビームスプリッターをプラスチックにより形成するとともに、その第1面の平面に特定の分波比を有する無偏光膜を形成する一方、第2面を曲面としたことを特徴とするプラスチックビームスプリッター。

IPC (3)：

G02B 27/28 ,  G02B 5/08 ,  G11B 7/135