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J-GLOBAL ID：200903013752463417

電圧駆動電極を有する処理装置及び粒子補集方法

Inventor： ジエローム・ジヨン・クオモ ,  マイケル・ビンセント・ガージオツソ ,  チヤールズ・リチヤード・ガレニエリ ,  クート・リンドセイ・ホラー ,  ジヨン・エドワード・ハイデンリツチ ,  ゲイリー・スチユワート・セレン ,  スタンレー・ジヨセフ・ホワイトヘアー
Applicant, Patent owner： インターナシヨナル・ビジネス・マシーンズ・コーポレイシヨン
Agent (1)： 頓宮 孝一 (外4名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1991116695
Publication number (International publication number)：1993074737
Application date： Apr. 22, 1991
Publication date： Mar. 26, 1993
Summary：

【要約】 (修正有)【目的】電圧駆動電極を有するプロセス・チェンバに粒子汚染に対する自浄能力を付与して、半導体製品等の歩留りを向上させ、且つ性能低下を防止する。【構成】電圧駆動電極12を有するプロセス・チェンバ10に、加工物表面または電極表面の形状を突起部、溝、またはテーパ部が形成されるよう適切な構成とすることによりプロセス・チェンバ内の静電位に所定のパターン18を形成せしめ、これによって汚染粒子30をプロセス・チェンバ内の所定領域に捕集する。これらの粒子は、次いで、ポンプポートを介してプロセス・チェンバから排出することができる。【効果】本発明によれば、プロセス・チェンバ内の粒子汚染を著しく減少させることによって、半導体製品等の歩留りの向上及び性能低下の防止が可能となる。

Claim (excerpt)：

少なくとも1つの電圧駆動電極を有する持つプロセス・チェンバと、上記チェンバ中で発生した粒子を所定の場所へ指向させることができる静電位を得るための手段と、を具備した装置。

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (5)

• 特開昭61-119685
  
• 特開平3-194842
  
• 特開昭63-016625
  
• 特開昭60-242622
  
• 特開昭61-224423