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J-GLOBAL ID：200903013771307426

高周波加熱装置

Inventor： 平井 和美
Applicant, Patent owner： 松下電器産業株式会社
Agent (1)： 小鍜治 明 (外2名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1993007263
Publication number (International publication number)：1994213461
Application date： Jan. 20, 1993
Publication date： Aug. 02, 1994
Summary：

【要約】【目的】 食品の外周部と内部の加熱状態を均一にすることにより、食品全体を均一に加熱できる高周波加熱装置を提供する。【構成】 加熱室11の上下から電波を照射する構成にし、加熱室内11内の側面に平行の溝25を有する棚24を設け、この棚には食品27の中央部に対向する位置に厚肉部28を有する低誘電率材料により構成した被加熱物載置台26を着脱自在に設ける。あるいは被加熱物載置台の下面に、電波集中体36を設ける。この構成により、加熱室の上下から電波が照射され、前記被加熱物載置台の厚肉部、あるいは前記電波集中体の誘電体に電波が集中する作用により、食品の中央部が良く加熱され、周囲からの加熱と相まって食品全体が均一に加熱できる。

Claim (excerpt)：

加熱室と、前記加熱室の上面および下面に結合された高周波発生手段と、前記加熱室の上面および下面に設けられた電波撹拌手段と、前記加熱室内の左右両側面に着脱自在に設けられた低誘電率材料により構成された一対の棚よりなり、前記棚には水平方向に溝または突起を設け、前記溝または突起に嵌合するように、被被加熱物の略中央部に対向する位置に厚肉部を有する低誘電率材料により構成した被加熱物載置台を着脱自在に設けた高周波加熱装置。

IPC (5)：

F24C 7/02 511 ,  F24C 7/02 551 ,  F24C 15/16 ,  H05B 6/64 ,  H05B 6/74

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (2)

• 特開昭56-084894
  
• 特開昭56-084894