Pat
J-GLOBAL ID:200903013838828302
孔位置の測定方法
Inventor:
,
Applicant, Patent owner:
Agent (1):
北村 欣一 (外2名)
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1993042949
Publication number (International publication number):1994258022
Application date: Mar. 03, 1993
Publication date: Sep. 16, 1994
Summary:
【要約】【目的】 ワークに形成された円形孔の中心位置を精度良く測定できるようにする。【構成】 ワークWの表面に1対の光源11、12から水平と垂直のスリット光101、102を円形孔Waを横切るように照射し、この照射像をカメラ21、22で撮像する。一方のスリット光101の照射像にA、B2つの端点のうちの一方のA点側の孔内周面にスリット光101が当たらないように該スリット光101の光軸を大きく傾け、孔内周面のスリット光像によってA点が円形孔Waの孔縁からずれることを防止する。スリット光102の照射像のC、D2つの端点とA点との計3点を含む平面上に、円形孔Waの孔径に対応する所定径の円をA、C2点及びA、D2点を通るように2つ描き、これら両円の中心の中点を円形孔の中心位置として求める。
Claim (excerpt):
ワークに形成した円形孔の中心位置を光学的に測定する方法であって、ワークの表面に円形孔を横切る互いに交差する第1と第2の2つのスリット光を照射し、これらスリット光の照射像を撮像手段で撮像して、円形孔の孔縁に合致する各照射像の端点の位置を検出し、これら端点の位置から円形孔の中心位置を割出すものにおいて、前記両スリット光の一方の第1スリット光を、円形孔の予測される最大限のずれを生じても第1スリット光の照射像の2つの端点のうちの一方の第1端点側の円形孔の内周面に第1スリット光が当たらないように、ワークの表面に照射し、この第1端点と第2スリット光の照射像の2つの端点のうちの一方の第2端点と他方の第3端点との空間座標値を撮像手段の画面上の該各端点の位置から算定し、空間座標系におけるこれら3つの端点を含む平面上に描かれる、円形孔の孔径に対応する所定径の円であって、第1端点と第2端点とを通る円の中心座標値と、第1端点と第3端点とを通る円の中心座標値とを算出し、これら両円の中心の中点を円形孔の中心位置として求めることを特徴とする孔位置の測定方法。
Return to Previous Page