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J-GLOBAL ID：200903013849881434

含フッ素重合体膜にパターンを形成する方法

Inventor： 鈴木 克巳 ,  横塚 俊亮 ,  青崎 耕
Applicant, Patent owner： 旭硝子株式会社
Agent (1)： 泉名 謙治
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1995190354
Publication number (International publication number)：1997043856
Application date： Jul. 26, 1995
Publication date： Feb. 14, 1997
Summary：

【要約】【課題】フォトレジスト層を形成することなく、露光により含フッ素重合体膜に直接パターンを形成する方法を提供する。【解決手段】官能基と含フッ素脂肪族環構造とを有する重合体、カップリング剤および含フッ素溶剤を含む樹脂組成物をキャストして得られる含フッ素重合体膜に紫外線を露光し、次いで露光部分を含フッ素溶剤によりエッチングする含フッ素重合体膜にパターンを形成する方法。

Claim (excerpt)：

官能基と含フッ素脂肪族環構造とを有する重合体、カップリング剤および含フッ素溶剤を含む樹脂組成物をキャストして得られる含フッ素重合体膜に紫外線を露光し、次いで露光部分を含フッ素溶剤によりエッチングすることを特徴とする含フッ素重合体膜にパターンを形成する方法。

IPC (5)：

G03F 7/40 521 ,  G03F 7/075 501 ,  G03F 7/38 512 ,  H01L 21/027 ,  H01L 21/306

FI (5)：

G03F 7/40 521 ,  G03F 7/075 501 ,  G03F 7/38 512 ,  H01L 21/30 502 R ,  H01L 21/306 A