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J-GLOBAL ID:200903013853893528
蛍光X線分析方法
Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1):
藤本 英夫
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1993214857
Publication number (International publication number):1995049319
Application date: Aug. 05, 1993
Publication date: Feb. 21, 1995
Summary:
【要約】【目的】 定量測定、計算の条件設定で人為的な設定ミスをなくし、条件設定の手間を軽減し、専門的な知識がなくても精度良く定量分析を行うことができる蛍光X線分析方法を提供すること。【構成】 試料3に対してX線2を照射し、そのとき発生する蛍光X線5を検出器4で検出し、この検出器4の出力に基づいてスペクトルデータを得るようにした蛍光X線分析方法において、前記スペクトルデータの形状から試料の種類を判定し、試料系統によってその試料に最適の計算条件を自動的に設定して濃度計算を行うようにした。
Claim (excerpt):
試料に対してX線を照射し、そのとき発生する蛍光X線を検出器で検出し、この検出器の出力に基づいてスペクトルデータを得るようにした蛍光X線分析方法において、前記スペクトルデータの形状から試料の種類を判定し、試料系統によってその試料に最適の計算条件を自動的に設定して濃度計算を行うことを特徴とする蛍光X線分析方法。
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (5)
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特公昭59-030213
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特開平4-343051
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特開平3-073833
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特開平4-113206
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蛍光X線膜厚計
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平5-021234
Applicant:セイコー電子工業株式会社
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