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J-GLOBAL ID：200903013854827685

欠陥検査装置

Inventor：
米澤 栄二

About 米澤 栄二


Applicant, Patent owner：
株式会社ニデック

About 株式会社ニデック


Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1999184881
Publication number (International publication number)：2001013085
Application date： Jun. 30, 1999
Publication date： Jan. 19, 2001
Summary：
【要約】【課題】 種類の異なる周期的なパターンを持つ被検物に対しても、複雑な調整や処理を行うことなく、高感度で容易に欠陥検査を行う。【解決手段】 周期的パターンを有する被検物を略平行光により斜め方向から暗視野照明する暗視野照明光学系と、被検物を撮像する撮像素子を持つ撮像光学系と、撮像された暗視野画像データに基づいて欠陥を検査する手段とを備え、暗視野照明の照明方向と撮像光学系の撮像方向との相対的な位置関係はパターンの周期と暗視野照明光の波長とによって定まる回折角に基づいて決定され、被検物に平行な方向の暗視野照明の開口角と撮像光学系が持つ撮像レンズの被検物側開口角の合計は、パターンの周期と暗視野照明光の波長とによって定まる回折角より小さく設定されていることを特徴とする。
Claim (excerpt)：
周期的パターンを有する被検物の欠陥を検査する欠陥検査装置において、被検物を略平行光により斜め方向から暗視野照明する暗視野照明光学系と、暗視野照明された被検物を撮像する撮像素子を持つ撮像光学系と、前記撮像素子により撮像された暗視野画像データに基づいて欠陥を検査する欠陥検査手段とを備え、前記暗視野照明の照明方向と前記撮像光学系の撮像方向との相対的な位置関係は前記パターンの周期と暗視野照明光の波長とによって定まる回折角に基づいて決定され、被検物に平行な方向の暗視野照明の開口角と前記撮像光学系が持つ撮像レンズの被検物側開口角の合計は、前記パターンの周期と暗視野照明光の波長とによって定まる回折角より小さく設定されていることを特徴とする欠陥検査装置。
IPC (3)：
G01N 21/956 ,  G06T 7/00 ,  H01L 21/66
FI (3)：
G01N 21/956 A ,  H01L 21/66 J ,  G06F 15/62 405 A
F-Term (44)：
2G051AA51 ,  2G051AB01 ,  2G051AB07 ,  2G051BA20 ,  2G051BB05 ,  2G051CA03 ,  2G051CA04 ,  2G051CB05 ,  2G051CB06 ,  2G051DA07 ,  2G051EA12 ,  2G051EA14 ,  2G051FA10 ,  4M106AA01 ,  4M106AA02 ,  4M106BA04 ,  4M106CA38 ,  4M106CA41 ,  4M106DB04 ,  4M106DB07 ,  4M106DB15 ,  4M106DB19 ,  4M106DB30 ,  4M106DJ04 ,  4M106DJ11 ,  4M106DJ14 ,  4M106DJ21 ,  4M106DJ23 ,  5B057AA03 ,  5B057BA02 ,  5B057BA17 ,  5B057CA08 ,  5B057CA12 ,  5B057CA16 ,  5B057CB08 ,  5B057CB12 ,  5B057CB16 ,  5B057CC02 ,  5B057CE08 ,  5B057CE09 ,  5B057CE11 ,  5B057DA03 ,  5B057DB02 ,  5B057DB09
Patent cited by the Patent：
Cited by examiner (6)
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