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J-GLOBAL ID：200903013856983048

基板洗浄装置

Inventor： 村岡 祐介
Applicant, Patent owner： 大日本スクリーン製造株式会社
Agent (1)： 吉田 茂明 (外2名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2000085464
Publication number (International publication number)：2001269631
Application date： Mar. 27, 2000
Publication date： Oct. 02, 2001
Summary：

【要約】【課題】 基板に付着した有機物を迅速に除去することができる基板洗浄装置を提供する。【解決手段】 混合器30において、オゾン水供給源53から供給された飽和オゾン水中にオゾンガス供給源62から供給されたオゾンガスを無数の微細な気泡として均一に混合することによってオゾンガス-オゾン水混相流を生成し、その混相流を吐出ノズル20から基板Wの主面に吐出する。混相流によるエロージョンの作用に加えて、酸化分解反応によって消費された溶解オゾンが気泡として存在するオゾンガスによって直ちに補われ、オゾン水中のオゾン濃度を常に飽和濃度に維持することができるため、基板Wに付着した有機物を迅速に除去することができる。

Claim (excerpt)：

基板表面の洗浄処理を行う基板洗浄装置であって、基板を保持する保持手段と、オゾン水または純水にオゾンガスを混合することによってオゾン水とオゾンガスとからなる混相流を生成する混相流生成手段と、前記混相流生成手段によって生成された混相流を前記保持手段に保持された基板に吐出する吐出手段と、を備えることを特徴とする基板洗浄装置。

IPC (8)：

B08B 3/08 ,  B08B 3/10 ,  C23G 1/24 ,  G02F 1/13 101 ,  G02F 1/1333 500 ,  H01L 21/304 642 ,  H01L 21/304 643 ,  H01L 21/304 647

FI (8)：

B08B 3/08 Z ,  B08B 3/10 Z ,  C23G 1/24 ,  G02F 1/13 101 ,  G02F 1/1333 500 ,  H01L 21/304 642 F ,  H01L 21/304 643 A ,  H01L 21/304 647 Z

F-Term (29)：

2H088FA21 ,  2H088FA30 ,  2H088MA20 ,  2H090HC18 ,  2H090JB02 ,  2H090JC19 ,  3B201AA02 ,  3B201AA03 ,  3B201AB34 ,  3B201AB42 ,  3B201AB44 ,  3B201BB02 ,  3B201BB03 ,  3B201BB33 ,  3B201BB38 ,  3B201BB62 ,  3B201BB88 ,  3B201BB90 ,  3B201CD31 ,  4K053PA17 ,  4K053QA04 ,  4K053RA07 ,  4K053RA13 ,  4K053SA09 ,  4K053XA07 ,  4K053XA21 ,  4K053XA22 ,  4K053XA31 ,  4K053YA04