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J-GLOBAL ID：200903013879613060

マルチスパイラル原盤の製造方法

Inventor： 森田 成二
Applicant, Patent owner： 株式会社ニコン
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1994158474
Publication number (International publication number)：1996031018
Application date： Jul. 11, 1994
Publication date： Feb. 02, 1996
Summary：

【要約】【目的】光学系の調整が簡単で、しかも装置のコストを低く抑えてマルチスパイラル原盤を製造する方法を提供する。【構成】レーザービームをウォブリングさせて、マルチスパイラル原盤を製造する。

Claim (excerpt)：

1個のレーザービーム露光する際、前記ビームをウォブリングさせることで同時に複数のトラッキングガイドを形成することを特徴とするマルチスパイラル原盤の製造方法。