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J-GLOBAL ID：200903013883509676

現像装置

Inventor： 熊澤 博嗣 ,  山口 和伸 ,  島井 太 ,  佐合 宏仁
Applicant, Patent owner： 東京応化工業株式会社
Agent (1)： 下田 容一郎 (外2名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1993119917
Publication number (International publication number)：1994333813
Application date： May. 21, 1993
Publication date： Dec. 02, 1994
Summary：

【要約】【目的】 現像液の使用量を少なくすることができる現像装置を提供する。【構成】 円板状をなす現像台8の上面には凹部9を形成している。この凹部9は2段状をなし、内側の凹部9aは基板Wの平面形状と略等しい平面形状で、その深さは基板Wと略等しく、外側の凹部9bは内側の凹部9aの外側に略等しい幅の段部をもって形成されている。即ち、凹部9は平面視で基板Wよりも大きく且つその深さが基板Wの厚さよりも深い。

Claim (excerpt)：

表面にホトレジスト層を設けた基板を回転する現像台上に載置し、該膜上に現像液を供給して可溶成分を溶出するようにした現像装置において、前記現像台の上面には平面視で基板よりも大きく且つその深さが基板の厚さよりも深い凹部が形成されていることを特徴とする現像装置。

IPC (2)：

H01L 21/027 ,  G03F 7/30 502

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (2)

• 特開昭61-202434
  
• 特開昭61-202434