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J-GLOBAL ID：200903013884020220

薄膜の製造方法およびそれに用いる薄膜製造装置

Inventor： 一條 力 ,  塚本 遵
Applicant, Patent owner： 東レ株式会社
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1993006124
Publication number (International publication number)：1994216022
Application date： Jan. 18, 1993
Publication date： Aug. 05, 1994
Summary：

【要約】【構成】基材に、加水分解性基が直接ケイ素原子に結合したケイ素化合物を接触させた後、共役系重合体膜を形成することを特徴とする薄膜の製造方法。【効果】基材と、共役重合体膜とが良好な密着性を有し、例えば、フォトレジストパターン形成などに用いた場合、パターンの寸法変動が小さい二層構造フォトレジストパターンが得られる。

Claim (excerpt)：

基材に、加水分解性基が直接ケイ素原子に結合したケイ素化合物を接触させた後、共役系重合体膜を形成することを特徴とする薄膜の製造方法。

IPC (3)：

H01L 21/027 ,  G03F 7/025 ,  G03F 7/11 503

FI (2)：

H01L 21/30 361 T ,  H01L 21/30 361 S