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J-GLOBAL ID：200903013892232113

ホットプレートユニット

Inventor： 伊藤 康隆
Applicant, Patent owner： イビデン株式会社
Agent (1)： 安富 康男 (外2名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2001048977
Publication number (International publication number)：2002252270
Application date： Feb. 23, 2001
Publication date： Sep. 06, 2002
Summary：

【要約】【課題】 セラミック基板の側面や底面外周部と支持容器とが非接触であり、シリコンウエハ等の被加熱物を均一に加熱することができるホットプレートユニットを提供すること。【解決手段】 その表面または内部に抵抗発熱体が形成されたセラミック基板が、支持容器に配設されてなるホットプレートユニットであって、上記セラミック基板は、上記支持容器の内部に設置された支持部材により支持されており、かつ、上記支持容器と上記セラミック基板とは、非接触であることを特徴とするホットプレートユニット。

Claim (excerpt)：

その表面または内部に抵抗発熱体が形成されたセラミック基板が、支持容器に配設されてなるホットプレートユニットであって、前記セラミック基板は、前記支持容器の内部に設置された支持部材により支持されており、かつ、前記支持容器と前記セラミック基板とは、非接触であることを特徴とするホットプレートユニット。

IPC (7)：

H01L 21/68 ,  H05B 3/06 ,  H05B 3/10 ,  H05B 3/16 ,  H05B 3/18 ,  H05B 3/20 393 ,  H05B 3/68

FI (7)：

H01L 21/68 N ,  H05B 3/06 B ,  H05B 3/10 C ,  H05B 3/16 ,  H05B 3/18 ,  H05B 3/20 393 ,  H05B 3/68

F-Term (45)：

3K034AA03 ,  3K034AA10 ,  3K034AA19 ,  3K034AA21 ,  3K034AA34 ,  3K034AA37 ,  3K034BA02 ,  3K034BA15 ,  3K034BB06 ,  3K034BB14 ,  3K034BC04 ,  3K034BC12 ,  3K034CA26 ,  3K034DA04 ,  3K034GA01 ,  3K034GA10 ,  3K034HA01 ,  3K034HA10 ,  3K034JA02 ,  3K092PP09 ,  3K092QA05 ,  3K092QB08 ,  3K092QB12 ,  3K092QB26 ,  3K092QB44 ,  3K092QB75 ,  3K092QB76 ,  3K092QC44 ,  3K092QC52 ,  3K092RF03 ,  3K092RF11 ,  3K092RF17 ,  3K092RF27 ,  3K092TT21 ,  3K092UA05 ,  3K092VV22 ,  3K092VV35 ,  5F031HA02 ,  5F031HA03 ,  5F031HA10 ,  5F031HA18 ,  5F031HA37 ,  5F031MA28 ,  5F031MA32 ,  5F031MA33