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J-GLOBAL ID：200903013924850949

酸化還元電位センサの洗浄方法

Inventor： 池ケ谷 智行 ,  柳田 芳紀 ,  才原 康弘 ,  西川 壽一 ,  野口 弘之 ,  中野 源喜
Applicant, Patent owner： 松下電工株式会社 ,  東亜電波工業株式会社
Agent (1)： 石田 長七 (外2名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1996331583
Publication number (International publication number)：1997210951
Application date： Nov. 26, 1996
Publication date： Aug. 15, 1997
Summary：

【要約】【課題】 安全性高く洗浄を行なうことができる酸化還元電位センサの洗浄方法を提供する。【解決手段】 酸化還元電位センサ1の不溶性金属電極で形成される作用電極2を、溶存塩素を含む強酸性水L1 と、溶存酸素を含む弱酸性水L2 と、溶存水素を含む強アルカリ水L3 とを用いてこの順に処理する。このように処理することによって、毒性を有する洗浄液を用いる必要なく作用電極2の表面を洗浄することができる。

Claim (excerpt)：

酸化還元電位センサの不溶性金属電極で形成される作用電極を、溶存塩素を含む強酸性水と、溶存酸素を含む弱酸性水と、溶存水素を含む強アルカリ水とを用いてこの順に処理することによって、作用電極の表面を洗浄することを特徴とする酸化還元電位センサの洗浄方法。

IPC (3)：

G01N 27/38 301 ,  C02F 1/46 ,  G01N 27/416

FI (3)：

G01N 27/38 301 ,  C02F 1/46 A ,  G01N 27/46 341 Z