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J-GLOBAL ID：200903013945884673

磁気抵抗効果薄膜およびその製造方法

Inventor： 石綿 延行
Applicant, Patent owner： 日本電気株式会社
Agent (1)： 京本 直樹 (外2名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1993240978
Publication number (International publication number)：1995099114
Application date： Sep. 28, 1993
Publication date： Apr. 11, 1995
Summary：

【要約】【構成】 Ni-FeあるいはNi-Fe-Coの合金の多結晶集合体よりなる磁気抵抗効果薄膜において、膜厚15nm<δ<40nm、結晶粒径Dと膜厚δとの関係が、0.58δ≦D≦δである磁気抵抗効果薄膜とする。【効果】 本発明の結果、磁気抵抗効果薄膜の比抵抗を小さくすることが出来る。この磁気抵抗効果薄膜を用いたMRヘッドでは、通電寿命が顕著に長くなる。また、従来のMRヘッドに比べて、磁気抵抗効果膜の比抵抗が小さいことから、素子に流す電流を増すことが可能となり、ヘッドの再生出力を増大させることも可能となる。

Claim (excerpt)：

Ni-Fe、あるいは、Ni-Fe-Coの合金の多結晶集合体よりなる磁気抵抗効果薄膜において、膜厚δが15nm<δ<40nmであり、かつ、δと結晶粒径Dとの関係が、0.58δ≦D≦δであることを特徴とする磁気抵抗効果薄膜。

IPC (6)：

H01F 10/14 ,  C23C 14/14 ,  G11B 5/39 ,  H01L 21/203 ,  H01L 43/02 ,  H01L 43/12