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J-GLOBAL ID：200903013947879944

生体外遺伝子治療のためのフロースルー電気穿孔システム

Inventor：
ホフマン、グンター

About ホフマン、グンター

, 
ラブッセイ、ディエトマー

About ラブッセイ、ディエトマー


Applicant, Patent owner：
ジェネトロニクス、インコーポレーテッド

About ジェネトロニクス、インコーポレーテッド


Agent (1)： 平木 祐輔 (外2名)
Gazette classification：公表公報
Application number (International application number)：2000551845
Publication number (International publication number)：2002516678
Application date： Jun. 01, 1999
Publication date： Jun. 11, 2002
Summary：
【要約】 本発明は、細胞にあらかじめ選択した分子を接触させ、細胞に複数の一連の電気パルスを印加することで、あらかじめ選択した分子を生細胞に導入する方法及び装置である。この方法は生体外で実行できる。複数の電気パルスは回転電界を発生し、生細胞を死滅させることなく一時的な細孔を細胞に形成する。回転電界は、2つ以上の電極(150)を有するフロースルーチャンバ装置(100)内に供給される。例えば、収集、電気穿孔、電気泳動といった3ステップパルス処理を利用して、選択した分子を細胞内に導入する。連続するパルス間で細胞の位置を再調整する機械的手段(710)もまた提供する。この装置は更に細胞に異なる温度でパルスを印加し、パルス印加後、細胞を異なる温度で特定の滞留時間内で回復させる手段(540)も有する。
Claim (excerpt)：
生細胞への分子の導入方法であって、 第1の特定の温度に維持されている細胞分子混合物を形成するため、生細胞を選択した分子と接触させ、 前記細胞の細胞膜において前記選択した分子を収集するため前記細胞分子混合物に第1の電気インパルスを印加し、 前記細胞膜に一時的な透過性を与えるため前記第1の電気インパルスの印加後に前記細胞分子混合物に第2の電気インパルスを印加し、 前記細胞膜を通して前記細胞内に前記選択した分子の一部を移動させるため前記第2の電気インパルスの印加後に前記細胞分子混合物に第3の電気インパルスを印加し、 前記第1、第2及び第3の電気インパルスが1つの3ステップパルスを形成し、前記3ステップパルスが前記細胞分子混合物に対し、回転電界を発生するために異なる配向の電界を加えて連続的に印加することを特徴とする、生細胞への分子の導入方法。
IPC (3)：
C12N 15/09 ,  A61K 48/00 ,  C12M 1/00
FI (3)：
A61K 48/00 ,  C12M 1/00 A ,  C12N 15/00 A
F-Term (12)：
4B024AA01 ,  4B024AA19 ,  4B024CA01 ,  4B024CA11 ,  4B024DA02 ,  4B024GA14 ,  4B024HA17 ,  4B029AA24 ,  4B029BB11 ,  4B029CC01 ,  4C084AA13 ,  4C084AA30
Patent cited by the Patent：
Cited by examiner (1)

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