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J-GLOBAL ID：200903013958164254

有機溶剤を含む排ガスの処理方法及び装置

Inventor： 井上 昭史 ,  長崎 洋一
Applicant, Patent owner： ヤマハ株式会社
Agent (1)： 藤巻 正憲
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1998000540
Publication number (International publication number)：1999192418
Application date： Jan. 05, 1998
Publication date： Jul. 21, 1999
Summary：

【要約】【課題】 排ガスから有機溶剤を高効率で除去して排ガスを洗浄することができると共に、処理コスト及び設備コストが低い有機溶剤を含む排ガスの処理方法及び処理装置を提供する。【解決手段】 排ガス洗浄部1において、有機溶剤を含有する排ガスに、光触媒を含む洗浄液を散布又は噴射して前記排ガスを洗浄する。洗浄後の排ガスは排気管3から排出する。一方、洗浄後の有機溶剤を含む洗浄液には、光触媒反応部6において、光触媒の存在下で紫外線発光体9から紫外線を照射し、有機溶剤を光分解して無害化する。洗浄液は配管を介して循環供給する。

Claim (excerpt)：

有機溶剤を含有する排ガスに、光触媒を含む洗浄液を散布又は噴射して前記排ガスを洗浄する工程と、洗浄後の排ガスを排出すると共に、洗浄後の有機溶剤を含む洗浄液に前記光触媒の存在下で紫外線を照射して前記有機溶剤を分解する工程とを有することを特徴とする有機溶剤を含む排ガスの処理方法。

IPC (4)：

B01D 53/86 ZAB ,  B01D 53/86 ,  B01J 35/02 ,  C02F 1/32

FI (4)：

B01D 53/36 ZAB J ,  B01J 35/02 J ,  C02F 1/32 ,  B01D 53/36 G