ラクトン構造を有する多環式化合物

Inventor： , ,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：長谷川曉司
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2002214989
Publication number (International publication number)：2003113174
Application date： Jul. 24, 2002
Publication date： Apr. 18, 2003
Summary：

【要約】【課題】エキシマレーザー光を光源とするフォトリソグラフィーに用いるレジスト材料のベース樹脂として好適な重合体を与える単量体を提供する.【解決手段】下記式(1)〜(4)で表されるラクトン構造を有する多環式化合物。(式中、R1〜R7は、それぞれ独立して、水素原子又はアルキル基を示す。Xは炭素数1ないし8のアルキル基で置換されていてもよいメチレン基もしくはエチレン基、酸素原子又は硫黄原子を示す。nは0又は正の整数である。)

Claim (excerpt)：

下記式(1)〜(4)で表されるラクトン構造を有する多環式化合物。【化1】(式中、R1〜R7は、それぞれ独立して、水素原子又はアルキル基を示す。Xは炭素数1ないし8のアルキル基で置換されていてもよいメチレン基もしくはエチレン基、酸素原子又は硫黄原子を示す。nは0又は正の整数である。)

IPC (4)：

C07D307/94 , C08F 20/26 , G03F 7/033 , G03F 7/039 601

FI (4)：

C07D307/94 , C08F 20/26 , G03F 7/033 , G03F 7/039 601

F-Term (18)：

2H025AA09 , 2H025AA14 , 2H025AB16 , 2H025AC04 , 2H025AC06 , 2H025AC08 , 2H025AD01 , 2H025AD03 , 2H025CB14 , 2H025CB41 , 4C037WA01 , 4J100AL08P , 4J100BA11P , 4J100BC07P , 4J100BC08P , 4J100BC53P , 4J100BC83P , 4J100JA38

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (7)

ラクトン構造を有する新規(メタ)アクリレート化合物、重合体、フォトレジスト材料、及びパターン形成法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願2001-179614 Applicant：信越化学工業株式会社
芳香族ビニル系化合物・(メタ)アクリレート共重合体
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平9-138880 Applicant：三井化学株式会社, 本州化学工業株式会社
(メタ)アクリレート、重合体、フォトレジスト組成物およびそれを用いたパターン形成方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平9-099064 Applicant：日本電気株式会社

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