露光記録装置

Inventor： ,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：吉田茂明 (外2名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1998343930
Publication number (International publication number)：2000168136
Application date： Dec. 03, 1998
Publication date： Jun. 20, 2000
Summary：

【要約】【課題】回折格子型の変調素子からの1次回折光を用いて刷版を露光する際に光源部からの光の利用効率が悪い。【解決手段】光源部311からのレーザー光を回折格子型の変調素子の配列である変調部314へと入射させ、変調部314からの0次回折光のみをフィルタリング光学系を用いて感材9へと導く。このとき、所定の条件式を満たすように光源部311および照明光学系を設計することで、0次回折光と±1次回折光とが重なり合わないようにする。これにより、0次回折光を露光用の信号光として利用することができ、光の利用効率のよい露光記録装置を構成することができる。また、結像光学系の開口数も小さく抑えることができ、結像光学系の設計が容易となる。

Claim (excerpt)：

印刷に用いられる被露光体を露光する露光記録装置であって、波長がλである光を出射する光源と、0次回折光の強度が強くなる第1の状態と奇数次回折光の強度が強くなる第2の状態との間で切り替え可能であり、格子ピッチがp、格子が並ぶ方向の幅がΔである回折格子型の変調素子を前記格子が並ぶ方向に複数配列した変調素子配列と、前記変調素子配列に対して開口数がNAであり、前記光源からの光を前記格子が並ぶ方向に対して垂直な方向から前記変調素子配列に入射させる照明光学系と、前記第1の状態の前記変調素子からの0次回折光を被露光体が配置される露光位置へと導き、前記第2の状態の前記変調素子からの奇数次回折光を前記露光位置に対して遮光する結像光学系と、を備え、【数1】で示される式が満たされることを特徴とする露光記録装置。

IPC (3)：

B41J 2/44 , G02B 13/24 , G03F 7/20 511

FI (3)：

B41J 3/00 D , G02B 13/24 , G03F 7/20 511

F-Term (23)：

2C362AA03 , 2C362AA34 , 2C362AA47 , 2C362AA51 , 2C362BA81 , 2C362BA84 , 2C362BA86 , 2C362DA03 , 2H087KA19 , 2H087LA23 , 2H087LA24 , 2H087LA25 , 2H087NA03 , 2H087RA32 , 2H087RA46 , 2H097AA03 , 2H097AB08 , 2H097CA06 , 2H097CA17 , 2H097GB04 , 9A001BZ06 , 9A001KZ16 , 9A001KZ42

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (9)

画像形成装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平8-029662 Applicant：シャープ株式会社
光走査装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平3-202905 Applicant：富士通株式会社
熱記録方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平4-258297 Applicant：富士写真フイルム株式会社

Show all

Return to Previous Page