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J-GLOBAL ID：200903014031361504

化粧料、シリカ被覆金属酸化物粉およびその製法

Inventor： 石井 伸晃 ,  和田 紘一 ,  関口 和夫 ,  高間 道裕 ,  伊東 忍 ,  矢野 幸太郎 ,  川崎 計二 ,  斉藤 康夫
Applicant, Patent owner： 昭和電工株式会社
Agent (1)： 石田 敬 (外4名)
Gazette classification：再公表公報
Application number (International application number)：JP1998001133
Publication number (International publication number)：WO1998047476
Application date： Mar. 17, 1998
Publication date： Oct. 29, 1998
Summary：

【要約】シリカ膜厚が0.1〜100nmであり、テトラリン自動酸化法により測定した光触媒活性度が6mmH2O/min.以下であるシリカ被覆金属酸化物粉を含有する化粧料。1150〜1250cm-1と1000〜1100cm-1の赤外吸収スペクトルの吸収ピーク強度の比I(I=I1/I2:I1は1150〜1250cm-1の吸収ピーク強度、I2は1000〜1100cm-1の吸収ピーク強度)が0.2以上であり、かつ屈折率が1.435以上であるシリカ膜に被覆されたシリカ被覆金属酸化物粉。

Claim (excerpt)：

シリカ膜厚が0.1〜100nmであるシリカ被覆金属酸化物粉を含有することを特徴とする化粧料。

IPC (1)：

A61K 7/42