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J-GLOBAL ID：200903014036009787

液浸露光用ポジ型レジスト組成物およびレジストパターンの形成方法

Inventor：
石塚 啓太

About 石塚 啓太

, 
遠藤 浩太郎

About 遠藤 浩太郎


Applicant, Patent owner：
東京応化工業株式会社

About 東京応化工業株式会社


Agent (1)： 酒井 宏明
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2004170424
Publication number (International publication number)：2005284238
Application date： Jun. 08, 2004
Publication date： Oct. 13, 2005
Summary：
【課題】液浸露光用ポジ型レジスト組成物およびレジストパターンの形成方法、特に、水に対する遮断性に優れる液浸耐性を有する液浸露光用ポジ型レジスト組成物、および該レジスト組成物を用いたレジストパターンの形成方法を提供すること。【解決手段】本発明の液浸露光用ポジ型レジスト組成物を、(A)酸の作用によりアルカリ可溶性が増大する樹脂成分と、(B)露光により酸を発生する酸発生剤成分を含有してなる液浸露光用ポジ型レジスト組成物であって、 前記樹脂成分(A)が、少なくとも、アクリル酸エステル構成単位(a1)と、酸解離性溶解抑制基を有する(メタ)アクリル酸エステル構成単位(a2)とを含み、 前記構成単位(a1)が、前記構成単位(a1)のアクリル酸エステルに結合した環式基と、該環式基に結合している特定構造のフッ素化有機基とからなることを特徴とするレジスト組成物として構成する。【選択図】 なし
Claim (excerpt)：
(A)酸の作用によりアルカリ可溶性が増大する樹脂成分と、(B)露光により酸を発生する酸発生剤成分を含有してなる液浸露光用ポジ型レジスト組成物であって、 前記樹脂成分(A)が、少なくとも、アクリル酸エステル構成単位(a1)と、酸解離性溶解抑制基を有する(メタ)アクリル酸エステル構成単位(a2)とを含み、 前記構成単位(a1)が、前記構成単位(a1)のアクリル酸エステルに結合した環式基と、該環式基に結合しているフッ素化有機基とからなり、 有機基の水素原子の少なくとも一部がフッ素により置換されてなる前記フッ素化有機基が置換または非置換のアルコール性水酸基を有することを特徴とする液浸露光用ポジ型レジスト組成物。
IPC (3)：
G03F7/039 ,  C08F220/10 ,  H01L21/027
FI (3)：
G03F7/039 601 ,  C08F220/10 ,  H01L21/30 502R
F-Term (29)：
2H025AB16 ,  2H025AB17 ,  2H025AC04 ,  2H025AC08 ,  2H025AD03 ,  2H025BE00 ,  2H025BG00 ,  2H025FA03 ,  2H025FA12 ,  2H025FA17 ,  4J100AL08P ,  4J100AL08Q ,  4J100AL08R ,  4J100BA03Q ,  4J100BA03R ,  4J100BA11Q ,  4J100BB18Q ,  4J100BB18R ,  4J100BC04R ,  4J100BC07P ,  4J100BC08Q ,  4J100BC08R ,  4J100BC53Q ,  4J100CA04 ,  4J100CA05 ,  4J100DA01 ,  4J100DA04 ,  4J100DA36 ,  4J100JA38
Patent cited by the Patent：
Cited by examiner (5)
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